特許
J-GLOBAL ID:200903010310930190

赤外線放射及び熱に敏感な組成物及びそれを被覆したリソグラフィー用版

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-230982
公開番号(公開出願番号):特開2001-092126
出願日: 2000年07月31日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】 赤外線放射及び熱に敏感な組成物、及び、この組成物を被覆したリソグラフィー用版を提供する。【解決手段】 高分子バインダーと溶解性インヒビターを含むポジティブタイプの感熱組成物であって、前記溶解性インヒビターが、溶解性インヒビターがメタロセンでないとの条件のもとで、有機金属の化合物、有機塩、または、元素周期律表のIIIAグループまたは遷移グループの金属の無気塩の有機化合物である。
請求項(抜粋):
高分子バインダーと溶解性インヒビターを含むポジティブタイプの感熱組成物であって、前記溶解性インヒビターが、溶解性インヒビターがメタロセンでないとの条件のもとで、有機金属の化合物、有機塩、または、元素周期律表のIIIAグループまたは遷移グループの金属の無気塩の有機化合物であることを特徴とする組成物。
IPC (6件):
G03F 7/004 531 ,  G03F 7/004 505 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/032
FI (6件):
G03F 7/004 531 ,  G03F 7/004 505 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/032
引用特許:
審査官引用 (3件)

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