特許
J-GLOBAL ID：200903010311887220
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-051909
公開番号（公開出願番号）：特開平10-244201
出願日： 1997年03月06日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：
【要約】【課題】基板に処理を施すための処理室を確実にシールすること。【解決手段】処理室10内に配置された回転チャック20は、基板保持部21と、その下面の周縁付近から垂下した円筒状のスカート部27とを有する。このスカート部27の下端は、隔壁15の上面に固定された貯留容器40に貯留された純水に接液している。基板保持部21の下面の中央からは、中心軸22が垂下しており、この中心軸22は、軸受け23によって回転自在に支持されている。中心軸22には、回転アクチュエータ16からの回転力および昇降駆動機構30からの昇降駆動力が、マグネットカップリングによって、隔壁15を介して伝達される。これにより、回転チャック20は、回動および昇降駆動されるようになっている。
請求項（抜粋）：
基板に対して処理液を供給することによりその基板を処理する処理室と、この処理室の内部に設けられた可動部材と、上記可動部材に駆動力を伝達してこの可動部材を作動させる駆動機構と、駆動機構が収容された駆動室と、この駆動室と上記処理室との境界部に設けられ、上記処理室を上記駆動室から隔離するための液体を貯留する貯留容器とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B08B 3/02
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
B05C 11/08
, B08B 3/02 B
, H01L 21/304 341 C
, H01L 21/68 N
