酸素含有ガス状媒質中の窒素酸化物の選択接触還元方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-548074
公開番号（公開出願番号）：特表2002-514495
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2002年05月21日
要約：

【要約】本発明は酸素含有ガス状媒質(2)中の窒素酸化物を選択接触還元するための方法及び装置に関する。その際必要な還元剤は、分離された調製反応器(10)内で調製される。そのため、還元剤に分解可能な物質(18)を調製反応器(10)内でキャリアガスに加えることにより主として熱によって還元剤に変換する。その際、キャリアガスが必要なエネルギーを供給する。

請求項（抜粋）：

酸素含有ガス状媒質中の窒素酸化物の選択接触還元のため、還元剤に分解可能な物質(18)を使用し、この物質(18)を分離された調製反応器(10)内でまず主として熱により還元剤に変換し、引続きこの還元剤を窒素酸化物と反応させるために還元触媒(5)の手前でガス状媒質(2)に添加する、酸素含有ガス状媒質(2)中の窒素酸化物の選択接触還元方法において、物質(18)を調製反応器(10)を貫流するキャリアガス中に入れ、このキャリアガス中で反応させ、その際反応のための熱エネルギーをキャリアガスによって供給することを特徴とする選択接触還元方法。

IPC (2件)：

B01D 53/56 , B01D 53/94

FI (2件)：

B01D 53/34 129 B , B01D 53/36 101 A

Fターム (35件)：

4D002AA12 , 4D002AC01 , 4D002AC07 , 4D002AC10 , 4D002BA06 , 4D002BA12 , 4D002CA01 , 4D002CA07 , 4D002CA13 , 4D002DA07 , 4D002DA57 , 4D002EA01 , 4D002GA01 , 4D002GA03 , 4D002GB01 , 4D002GB03 , 4D002GB04 , 4D002GB08 , 4D002GB20 , 4D002HA08 , 4D048AA06 , 4D048AB02 , 4D048AB07 , 4D048AC03 , 4D048AC04 , 4D048AC10 , 4D048BA07X , 4D048BA23X , 4D048BA26X , 4D048BA27X , 4D048BA41X , 4D048BB02 , 4D048CC26 , 4D048CC27 , 4D048CC61

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