特許

J-GLOBAL ID：200903010331585956

光触媒活性酸化チタンの形成方法

発明者： 岸本 広次 ,  高濱 孝一 ,  中川 尚治 ,  出来 成人
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-101380
公開番号（公開出願番号）：特開平9-249418
出願日： 1996年04月23日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 光触媒活性に優れたチタン粉体、チタン膜等の光触媒活性酸化チタンの形成方法を提供する。【解決手段】 チタンフルオロ錯体を含む水溶液中の下記反応式?@の平衡を右に進める添加剤を添加し、又は、温度を上昇させ、過飽和になった溶液から光触媒活性酸化チタン粉体を形成させる。 TiF62- +2H2 O ⇔ TiO2 +4HF+2F- ---?@前記チタンフルオロ錯体が、チタンフッ化アンモニウムであり、基材の表面に光触媒活性TiO2 膜を形成させる光触媒活性酸化チタンの形成方法であって、前記添加剤の濃度が前記溶液全量に対して0.05〜0.5mol/リットル及びチタンフッ化アンモニウムの濃度が前記溶液全量に対して0.01〜0.2mol/リットルであり、前記基材の表面に膜厚100nm〜2μmの酸化チタン膜を形成させた後に、100〜700°Cで焼成する。

請求項（抜粋）：

チタンフルオロ錯体を含む水溶液中の下記反応式?@の平衡を右に進める添加剤を添加し、過飽和になった溶液から光触媒活性酸化チタン粉体を形成させることを特徴とする光触媒活性酸化チタンの形成方法。 TiF62- +2H2 O ⇔ TiO2 +4HF+2F- ---?@