特許

J-GLOBAL ID：200903010331936228

微細構造体の作製方法、微細構造体、ラマン分光用デバイス、ラマン分光装置、分析装置、検出装置、および質量分析装置

発明者： 村上 直樹 ,  李 静波
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-283290
公開番号（公開出願番号）：特開2009-109395
出願日： 2007年10月31日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：

【課題】金属微粒子を数10nm以下に密に配置する工程を行わずに、金属微粒子の近傍においてホットスポットを形成可能な微細構造体を容易に作製できる微細構造体の作製方法を提供する。 【解決手段】局在プラズモンを誘起しうる大きさの複数の金属微粒子を基材表面に分散固定した状態とする工程と、前記複数の前記金属微粒子の間隙に金属膜を成膜する工程とを有し、前記金属微粒子は、前記基材の表面と平行な切断面の断面積が最大となる部分をもち、前記断面積が最大となる部分から前記基材表面に向かうにつれて前記断面積が減少する形状であり、前記金属膜と離間することを特徴とする微細構造体の作製方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

局在プラズモンを誘起しうる大きさの複数の金属微粒子を基材表面に分散した状態で配置して固定する工程と、 前記複数の前記金属微粒子の間隙に金属膜を成膜する工程とを有し、 前記金属微粒子は、前記基材表面と平行な切断面の断面積が最大となる部分をもち、前記断面積が最大となる部分から前記基材表面に向かうにつれて前記断面積が減少する形状であり、前記金属膜と離間することを特徴とする微細構造体の作製方法。

IPC (5件)：

G01N 21/65 ,  G01N 27/64 ,  B82B 3/00 ,  B82B 1/00 ,  H01J 49/16

FI (5件)：

G01N21/65 ,  G01N27/64 B ,  B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  H01J49/16

Fターム (24件)：

2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041FA12 ,  2G041GA06 ,  2G041GA29 ,  2G041JA07 ,  2G041JA08 ,  2G043BA16 ,  2G043EA01 ,  2G043EA02 ,  2G043EA03 ,  2G043EA13 ,  2G043EA14 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16 ,  2G043JA01 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA09 ,  5C038EE03 ,  5C038GG07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 二次元配列構造体基板および該基板から剥離した微粒子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-381951   出願人：株式会社日立製作所