特許

J-GLOBAL ID：200903010343677961

成膜装置

発明者： 今中 佳彦 ,  明渡 純
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-170474
公開番号（公開出願番号）：特開2005-002461
出願日： 2003年06月16日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】緻密性が高く密着強度の高い膜を形成可能な成膜装置を提供する。【解決手段】微粒子噴射ノズル22と基板23との間に、微粒子噴射ノズル22と一体化されたマスク34を設け、マスク34は、所定の速度以上の速度を有する微粒子流を基板23上に堆積させてAD膜42を形成させ、所定の速度より遅い微粒子流の部分を遮断して、マスク34の凹部34Bに誘導し、排出用ガス噴射ノズル35から噴射されたガスにより基板移動方向に排出する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

エアロゾル化された微粒子材料を成膜室内で基板上に噴射して微粒子材料を堆積させる微粒子噴射ノズルを有する成膜装置であって、 前記微粒子噴射ノズルより噴射された微粒子流のうち、微粒子流の速度が所定以下の範囲の微粒子流を遮断する遮蔽手段を有し、 前記遮蔽手段が微粒子噴射ノズルと一体化されていることを特徴とする成膜装置。

IPC (4件)：

C23C24/02 ,  B05B1/28 ,  B05B1/34 ,  H01L21/31

FI (4件)：

C23C24/02 ,  B05B1/28 ,  B05B1/34 ,  H01L21/31 A

Fターム (19件)：

4F033BA01 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033KA02 ,  4F033LA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AB02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA10 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BC05 ,  4K044CA21 ,  4K044CA23 ,  4K044CA53 ,  5F045AB31 ,  5F045EB19 ,  5F045EF02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭51-050951
  
• 複合構造物形成用ノズル、複合構造物形成装置および複合構造物形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-130638   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 東陶機器株式会社