特許
J-GLOBAL ID：200903010356248776
成形用型の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156460
公開番号（公開出願番号）：特開2001-334533
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：
【要約】【課題】 微細な文字または図形に対応する凹凸を成形用型に容易にかつ精度よく加工することができること。【解決手段】 レジストパターン32’が形成された金型32’に対してエッチング処理を行い、文字または図形に対応する凹凸形状を比較的浅く形成するもの。
請求項（抜粋）：
成形用型の表面部に所定の文字または図形、および、該文字と該図形との結合をあらわすレジストパターンを形成する第1工程と、前記第1工程によりレジストパターンが形成された前記成形用型に対してエッチング処理を行い、前記文字または図形に対応する凹凸形状を比較的浅く前記表面部に形成する第2工程と、を含んでなる成形用型の製造方法。
Fターム (5件)：
4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CD24
