特許
J-GLOBAL ID：200903010360214908
露光装置及び露光システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158127
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008173
出願日： 1994年06月16日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】本発明は露光装置において、装置自体についても装置間についてもパターン歪の小さい露光装置を得る。【構成】レチクル(R)のパターンに生じている歪を歪検出手段(15A)、(15B)によつて検出し、検出結果を基に歪が所定の状態になるように圧力調整手段(13)の圧力を制御手段(11)によつて可変制御する。これにより吸着圧を最適な状態に制御でき、従来のように吸着力が強すぎるためにレチクル(R)が吸着面に沿つて変形するような事態を回避できる。この結果、パターンの歪方を複数台の露光装置によらずほぼ揃えることができ、重ね露光時やつなぎ露光時における重ね誤差やつなぎ誤差を一段と低減することができる。
請求項（抜粋）：
レチクルホルダに真空吸着されたレチクルを照明し、該レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影し露光する露光装置において、前記レチクルホルダによる前記レチクルの吸着圧を所定の値に可変制御する圧力調整手段と、前記レチクルのパターンに生じた歪を検出する歪検出手段と、前記歪が所定の状態になるように前記圧力調整手段における前記所定の値を制御する制御手段とを具えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 503 D
, H01L 21/30 516 F
