特許
J-GLOBAL ID:200903010363977775
光触媒用チタン陽極酸化被膜の生成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野田 雅士 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-224374
公開番号(公開出願番号):特開2002-038298
出願日: 2000年07月25日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】 厚膜型チタン陽極酸化被膜において、高活性の光触媒作用を発揮し、優れた抗菌、消臭、防汚効果が得られる光触媒用チタン陽極酸化被膜の生成方法を提供する。【解決手段】 リン酸、硫酸、および過酸化水素を含む電解浴に、酸化チタンの微粉体を添加した浴中で、チタンに一次陽極酸化によって陽極酸化被膜を形成させる。この被膜を形成させたチタンを、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素の混合浴中で再陽極酸化する。
請求項(抜粋):
リン酸、硫酸、および過酸化水素を含む電解浴に、酸化チタンの微粉体を添加した浴中で、チタンに一次陽極酸化によって陽極酸化被膜を生成した後、この被膜の生成されたチタンを、過酸化水素アンモニウムと過酸化水素の混合浴中で再陽極酸化する光触媒用チタン陽極酸化被膜の生成方法。
IPC (2件):
C25D 11/26 302
, C01G 23/04
FI (2件):
C25D 11/26 302
, C01G 23/04 C
Fターム (4件):
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD02
引用特許:
前のページに戻る