特許
J-GLOBAL ID：200903010366187295
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010961
公開番号（公開出願番号）：特開平5-205999
出願日： 1992年01月24日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【目的】 露光量の調整が容易で、所望のレジストパターン寸法を得る。【構成】 高圧水銀ランプを用いた光源1、コンデンサレンズ2、レティクル3、縮小投影レンズ4、ウェハステージ6、そしてウェハステージ6上に照射量測定用センサー8および半導体基板10からの反射光量を測定するもう一つの光量測定センサー7に入る。露光量と反射光量から適正露光量を算出するマイクロコンピューターとで構成されている。光源1からの光は矢印で示すように進み、コンデンサレンズ2によって収束され、レティクル3を通過した後に縮小投影レンズ4によって半導体基板10上のレジストに投射される。これにより所望のパターンが転写される。この時露光時の半導体基板10からの反射光量を光量測定センサー7で測定する。
請求項（抜粋）：
光源から放射された光と、前記光が通過するコンデンサレンズと、前記光が照射されるレティクルと、前記レティクルを通過した光を収束する縮小投影レンズと、前記縮小投影レンズを通過した光の照射量を測定するセンサーと、前記縮小投影レンズを通過した光が照射される半導体基板と、前記半導体基板で反射した光の反射光量を測定する光量測定センサーを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 S
