特許

J-GLOBAL ID：200903010371498347

荷電粒子線露光装置及び方法並びにステージ装置

発明者： 村木 真人
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-378022
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184664
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：

【要約】【課題】静圧空気軸受等の流体軸受けの採用による描画精度の低下を抑えて、高精度の描画を実現する。【解決手段】この露光装置は、磁性体からなるステージ定盤と、基板を載置しステージ定盤に沿って真空内を移動するステージ1002と、ステージ定盤からステージ1002を加圧流体により浮上させる流体軸受け1027と、ステージ定盤とステージ1002との間に吸引力を作用させる磁石ユニット1028と、磁界レンズとを備える。磁界レンズは、所定の開口を有する上方の磁極片1104と、下方の磁極片1105を有し、該上方の磁極片1104と該下方の磁極片1105との間に配置される基板Wに荷電粒子線を収斂させる。下方の磁極片1105は高透磁率の磁性材で形成され、磁力ユニット1028と基板Wとの間に配置されている。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線を収束させる電子レンズと前記荷電粒子線を偏向させる偏向器とを具備した電子光学鏡筒と、定盤と、前記定盤上を移動可能な試料ステージと、前記試料ステージに予圧を付勢するための磁力手段と、前記磁力手段からの漏洩磁場をシールドするための漏洩磁場シールド手段とを備える荷電粒子線露光装置を使用して、前記試料ステージ上に試料を載置して、前記試料に前記荷電粒子線によりパターンを描画することを特徴とする荷電粒子線露光方法。

IPC (7件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 ,  H01J 37/141 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305

FI (7件)：

G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 T ,  H01J 37/141 A ,  H01J 37/20 D ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 L

Fターム (21件)：

2F078CA02 ,  2F078CB05 ,  2F078CB18 ,  2F078CC02 ,  2F078CC20 ,  2F078HA11 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C001AA03 ,  5C001AA08 ,  5C001CC06 ,  5C033DD04 ,  5C033DD09 ,  5C033DE07 ,  5C034BB02 ,  5C034BB06 ,  5F056EA08 ,  5F056EA12 ,  5F056EA14