特許
J-GLOBAL ID：200903010386131423
面状光源装置に用いる基板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-229657
公開番号（公開出願番号）：特開平9-055111
出願日： 1995年08月15日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：
【要約】【課題】 従来の面状光源装置に備わる透明樹脂基板の裏面に白色または乳白色インクによる散乱パターンの印刷方法は、生産効率が悪く、かつ溶剤による環境汚染が危惧されたので、このような問題のない新規の散乱パターンを備える面状光源装置に用いる基板の製造方法を提供する。【解決手段】 透明樹脂基板の土台となる透明樹脂基材上に、光散乱物質を均一に散在させたフィルムを載置し、該フィルムの上方よりエンボス加工を行い、フィルムに凹凸形状による光散乱パターンを施し、かつ、フィルムと透明樹脂基材を溶着させ、透明樹脂基板を一体的に形成する。
請求項（抜粋）：
透明樹脂基材の上に、光散乱物質を含有または坦持したフィルムを載置し、しかる後一側から他側に向かって密度が増加するように配置される光散乱パターンに対応する突起を配置した型を加熱、圧接後、冷却することにより、フィルムの光散乱物質を含む熱可塑性樹脂層のうち、光散乱パターンに対応した部分のみを選択的に該透明樹脂基材に密着させて、透明樹脂基板を構成することを特徴とする面状光源装置に用いる基板の製造方法。
IPC (4件)：
F21V 8/00 601
, B32B 5/14
, B32B 7/02 103
, G02F 1/1335 530
F21V 8/00 601 B
, B32B 5/14
, B32B 7/02 103
, G02F 1/1335 530
