特許
J-GLOBAL ID：200903010391374393
像形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-169812
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022652
出願日： 1995年07月05日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：
【要約】【課題】本発明は、プラズマディスプレイの蛍光体等の像形成材料を微粒子の形で用いる像形成方法を提供するものであり、像形成材料の粒子径を選ぶことによって像形成材料層の厚みを容易に変更できる。また、本発明は、光不透過性あるいは光を通し難い材料で今までフォトリソグラフィー法で作ることが難しかった材料を用いたパターン形成にも適している。【解決手段】本発明は、活性光の照射により粘着性が変化する組成物の層に露光を与えた後、像形成材料用微粒子を散布し、上記組成物の層に付着しなかった微粒子を除去し、次いで加熱して像形成微粒子を基板に固着させることを特徴とする像形成方法である。
請求項（抜粋）：
活性光の照射により粘着性が変化する組成物の層に露光を与えた後、像形成材料用微粒子を散布し、上記組成物の層に付着しなかった微粒子を除去し、次いで加熱して像形成微粒子を基板に固着させることを特徴とする像形成方法。
IPC (3件)：
H01J 9/227
, G03F 7/004 523
, G03F 7/28
H01J 9/227 C
, G03F 7/004 523
, G03F 7/28
