特許

J-GLOBAL ID：200903010392184784

脱臭処理方法及び脱臭処理装置

発明者： 漆垣 謙次
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 藤田 龍太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-298139
公開番号（公開出願番号）：特開平10-118445
出願日： 1996年10月21日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】 バクテリア(生物)を利用することなく洗浄薬品を再利用し得るようにし、メンテナンスを容易にするとともに副生成物の回収処理等も不要にして薬品洗浄法で悪臭ガスを脱臭する。【解決手段】 処理対象ガスと硫酸第2鉄等の酸化作用を有する化合物の溶液とを接触して処理対象ガスを酸化脱臭し、この脱臭により生じた廃液をオゾン曝気により酸化して前記化合物の溶液をオゾンを含んだ状態で再生し、再生した前記化合物の溶液を処理対象ガスに接触し,前記化合物の溶液を再利用して脱臭を継続する。

請求項（抜粋）：

処理対象ガスと硫酸第2鉄等の酸化作用を有する化合物の溶液とを接触して前記処理対象ガスを酸化脱臭し、該脱臭により生じた廃液をオゾン曝気により酸化して前記化合物の溶液をオゾンを含んだ状態で再生し、再生した前記化合物の溶液を前記処理対象ガスに接触し,前記化合物の溶液を再利用して前記脱臭を継続することを特徴とする脱臭処理方法。

IPC (4件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/14 103 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (3件)：

B01D 53/34 116 D ,  B01D 53/14 103 ,  B01D 53/34 ZAB