特許
J-GLOBAL ID：200903010397467857
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-174000
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019567
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：
【要約】【課題】 基板に処理液を均一に供給して均一な液処理を行うこと。【解決手段】 現像液供給ノズル21が移動を開始した後、現像液供給ノズル21のスリット21aが基板Wの一端に達する時間T1よりも一定時間だけ早い時間T0で現像液供給源24のポンプをスタートさせ、可変バルブ25を急激に開放して非送液状態から送液状態に切り換える。現像液供給ノズル21のスリット21aが基板Wの他端に達した時間T2で、可変バルブ25を徐々に閉止して送液状態から非送液状態に漸次切り換え、現像液供給源24のポンプを停止させる。これにより、現像液供給ノズル21から基板W側に吐出される現像液を徐々に減少させることができ、現像液供給ノズル21のスリット21a近傍の内側から現像液が慣性で飛び出してしまうことを防止できる。これにより、レジスト膜上に意図しない現像不良部分が形成されることを予防できる。
請求項（抜粋）：
基板を略水平に保持しつつ当該基板の上方から処理液を吐出して当該基板に液処理を行う基板処理装置であって、前記基板上に前記処理液を供給する処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルに前記処理液を送液する送液配管と、前記送液配管の経路中に介在され、前記処理液供給ノズルへの前記処理液の供給を許容する送液状態と前記処理液供給ノズルへの前記処理液の供給を遮断する非送液状態とに切り換わる切換手段と、前記切換手段を前記送液状態から前記非送液状態へ切換速度を制御しつつ切り換えせしむる切換速度制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/10
, B05C 11/08
, G03F 7/30 502
, H01L 21/027
B05C 11/10
, B05C 11/08
, G03F 7/30 502
, H01L 21/30 569 C
, H01L 21/30 569 Z
