特許
J-GLOBAL ID:200903010401706772

シリコンを含有する基板とイットリウムを含有するバリア層とを有する物品及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 正剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-115747
公開番号(公開出願番号):特開2000-355753
出願日: 2000年04月17日
公開日(公表日): 2000年12月26日
要約:
【要約】【課題】 シリコンを含有する基板と環境的/熱的保護バリアコーティング層として機能するバリア層とを有した物品及びその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンを含有する基板のためのバリア層であって、このバリア層は、イットリウム珪酸塩を含み、物品が高温で水分の存在する条件にさらされたときにガス状Si化合物の形成を防ぐ。
請求項(抜粋):
シリコンを含有する基板と、イットリウムを含有するバリア層と、を有する物品であって、前記バリア層は、前記物品が高温で水分の存在する条件にさらされたときにガス状Si化合物の形成を防ぐものであることを特徴とする物品。
IPC (11件):
C23C 4/10 ,  B05D 3/12 ,  B05D 7/00 ,  B05D 7/14 ,  B05D 7/24 302 ,  B32B 15/04 ,  B32B 27/00 101 ,  C23C 4/02 ,  C23C 4/06 ,  C23C 4/18 ,  C23C 8/10
FI (11件):
C23C 4/10 ,  B05D 3/12 B ,  B05D 7/00 C ,  B05D 7/14 P ,  B05D 7/24 302 B ,  B32B 15/04 Z ,  B32B 27/00 101 ,  C23C 4/02 ,  C23C 4/06 ,  C23C 4/18 ,  C23C 8/10
引用特許:
審査官引用 (7件)
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