特許

J-GLOBAL ID：200903010403157954

変更されたゼオライトを製造する方法。

発明者： クーパー, デビット エー ,  コーミヤー,ウイリアム イー ,  ハーツェンベルグ,エリオット ピー ,  ヒンチェイ, リチャード ジェイ ,  マーカス, ボニータ ケイ
出願人/特許権者： ピーキュー ホールディング, インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 佐々井 克郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-602171
公開番号（公開出願番号）：特表2002-538069
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2002年11月12日
要約：

【要約】ゼオライトの流れパターンに関して撹乱条件下で、650〜1000°Cの範囲の温度で、ゼオライトを水蒸気と共に焼成することによって、高い疎水性インデックス数を有する疎水性ゼオライトが製造される。

請求項（抜粋）：

少なくとも20のシリカ対アルミナモル比を有するゼオライトを、約650°C〜約1000°Cの範囲の温度で、水蒸気の存在下で、そしてゼオライトの流れパターンに対し撹乱条件下で、少なくとも15分間焼成し、それによって疎水性のゼオライトを製造する方法。

IPC (4件)：

C01B 39/24 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/30 ,  C01B 39/06

FI (4件)：

C01B 39/24 ,  B01J 20/18 A ,  B01J 20/30 ,  C01B 39/06

Fターム (19件)：

4G066AA61A ,  4G066AA61B ,  4G066AE04B ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066BA38 ,  4G066BA50 ,  4G066CA56 ,  4G066FA17 ,  4G066FA22 ,  4G066FA34 ,  4G066FA35 ,  4G073CZ05 ,  4G073FA02 ,  4G073FB30 ,  4G073FD23 ,  4G073FE04 ,  4G073UA02 ,  4G073UA06