X線露光用マスクとそれに用いるブランク及びそれらの製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-273848
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130623
出願日： 1993年11月01日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】少なくともアライメント光が照射される側に反射防止膜を有するX腺マスクで、製造プロセスに起因するパターン位置精度が高く、メンブレンが破損する危険も少なく、反射防止膜が損傷をうけることも無く、特にこれらの点で製造の歩留まりが高いX線マスクとブランクそしてそれらの製造方法を提供する。【構成】X線露光時のアライメント光に対する反射防止膜用の層と、X線透過性膜用の層とを、支持体上にこの順に設け、支持体を裏側から選択的に行うエッチングを2段階に分けて行うこと、好ましくは第一エッチングと第二エッチングとの間に、X線吸収性膜のパターニングを行い、さらに好ましくは第一エッチングにはアルカリ系溶液、また第二エッチングにはエチレンジアミン系の溶液を、それぞれ用いることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

X線吸収の少ない材料を用いたメンブレンからなるX線透過性膜と、該X線透過性膜の面のうち少なくとも片面側に、X線露光工程で使用されるアライメント光に対する反射防止膜と、前記の膜に支持されたX腺吸収体パターンと、そして前記の膜をその外周側で支持する枠体と、少なくとも以上を備えたX線露光用マスクにおいて、該枠体の構造はその内壁の輪郭形状が、前記の膜に近い側では該膜に対して垂直に切り立ち、該膜から離れた側では斜面をなしていることを特徴とするX線露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

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