特許
J-GLOBAL ID：200903010416507679
X線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-190941
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023795
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】飛散粒子の発生をほとんど無くし、高頻度で繰り返してレーザープラズマ軟X線やX線レーザーを発生させることができるようにする。【解決手段】真空容器内に配置されたターゲットにエネルギービームを照射するX線発生装置において、気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料42がケース内に封入されてなる封入ターゲット40を用いた。このようなターゲット材料を用いることにより、飛散粒子の発生がほとんど無い。そして封入ターゲットとすることでレーザー集光部への連続的な供給が可能となる。
請求項（抜粋）：
真空容器と、該真空容器内に配置されたターゲットと、該ターゲットにエネルギービームを照射するビーム照射手段と、よりなるX線発生装置において、該ターゲットは気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料がケース内に封入されてなる封入ターゲットとして配置されていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (4件)：
H05G 2/00
, G21K 5/02
, G21K 5/08
, H05H 1/24
H05G 1/00 K
, G21K 5/02 X
, G21K 5/08 X
, H05H 1/24
4C092AA06
, 4C092AB11
, 4C092AB19
, 4C092BD01
