特許
J-GLOBAL ID：200903010432338763
メモリディスク製造方法及び情報記録再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-213435
公開番号（公開出願番号）：特開平8-077620
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 高密度メモリディスク作製方法及びその情報再生方法の提供。【構成】 走査型プローブ顕微鏡を用いてスタンパを作製することで、高密度メモリディスクを作製する。【効果】 走査型プローブ顕微鏡を用いることで微細な凹凸構造を有するスタンパが作製でき、これを用いて高密なメモリディスクが作製できる。レーザ光を用いたスタンパ作製方法による従来の記録密度を上回ることができる。
請求項（抜粋）：
表面に情報を担う凹凸が形成された樹脂からなるメモリディスクの製造において、走査型プローブ顕微鏡によりこの凹凸の加工を行ったスタンパを用いることを特徴とするメモリディスク製造方法。
IPC (2件)：
G11B 7/26 511
, G11B 7/00
