特許

J-GLOBAL ID：200903010436202440

テキスチャ装置およびテキスチャ加工方法

発明者： 栗山 俊彦 ,  芳山 龍一
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-057702
公開番号（公開出願番号）：特開平10-249557
出願日： 1997年03月12日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：

【要約】【課題】 良好なCSS特性およびスティッキング特性と磁気ヘッドの低浮上化とを同時に可能とするテキスチャ装置およびテキスチャ加工方法を提供する。【解決手段】 レーザビーム発振器1から出力されたレーザビームは、変調器2、ダイクロイックミラー9、集光機構5を経て基板6に照射される。この照射光のうち基板6で反射された光の一部がダイクロイックミラー9を透過し、ビームスプリッター3、ダイクロイックミラー11を経て撮像器12に入る。集光機構5に設けられた自動焦点制御機構を制御するために、自動焦点制御機構用補助レーザ光源4からのレーザビームがダイクロイックミラー11で反射され、ビームスプリッター3を透過し、ダイクロイックミラー9、集光機構5を経て基板6に入射され、その反射光が受光系10で受光される。

請求項（抜粋）：

磁気ディスク基板の表面に微小突起を形成するためのテキスチャ装置であって、レーザビーム発振器、該発振器からのレーザビームをON/OFF制御する変調器、該変調器からのレーザビームを基板表面に照射する集光機構、及びレーザビームと基板とを相対的に移動させる移動手段を有するテキスチャ装置において、該基板表面のうち該レーザビームが照射されている部分を観察する観察手段を備えたことを特徴とするテキスチャ装置。

IPC (4件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/02 ,  B23K 26/04 ,  G11B 5/84

FI (5件)：

B23K 26/00 H ,  B23K 26/00 M ,  B23K 26/02 C ,  B23K 26/04 C ,  G11B 5/84 A