特許
J-GLOBAL ID：200903010441450215
微結晶膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-068711
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260292
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】 250°C以下の低い基板温度で、微結晶膜の製膜速度の高速化を図る。【解決手段】 反応室に導入した原料ガスの圧力を0.5〜50mTorr の範囲内に保ち、電子ビームガンで加速された電子によって前記原料ガスをプラズマ状態にし分解してイオンまたはラジカルを基板上に堆積させる。
請求項（抜粋）：
反応室に導入した原料ガスの圧力を0.5〜50mTorr の範囲内に保ち、電子ビームガンで加速された電子によって前記原料ガスをプラズマ状態にし分解して前記原料ガスのイオンまたはラジカルを基板上に堆積させることを特徴とする微結晶膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/285
, H01L 31/04
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/285 C
, H01L 31/04 X
