特許

J-GLOBAL ID：200903010462080361

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  土居 靖宜 ,  橋本 和彦 ,  尾崎 晴喜 ,  塙 良太郎
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-316499
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034918
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 高度の耐熱性、解像度及び感度等の諸性能を維持したまま、塗布性、プロファイル及び焦点深度等の性能にも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 乳酸エチル並びに、(a)酢酸n-アミル、(b)2-ヘプタノン及び(c)酢酸n-アミル/2-ヘプタノン混合溶媒の中のいずれか1種を含み、且つに乳酸エチルと、(a)乃至(c)の溶媒の中のいずれか1種との重量比が5:95乃至80:20の範囲である溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

乳酸エチル並びに、(a)酢酸n-アミル、(b)2-ヘプタノン及び(c)酢酸n-アミル/2-ヘプタノン混合溶媒の中のいずれか一種を含み、且つ乳酸エチルと、(a)乃至(c)の溶媒の中のいずれか一種との重量比が5:95乃至80:20の範囲である溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭62-123444
  
• 特開昭63-178228
  
• 特開昭62-194249
  
• 特開昭62-251739
  
• 特開昭63-220139
  
• 特開平2-084650