特許
J-GLOBAL ID：200903010477235213
レジストパターンの推定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-238438
公開番号（公開出願番号）：特開平5-080531
出願日： 1991年09月18日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】 本発明は逆台形状のレジストパターン間の下面側離間寸法を推定できるレジストパターンの推定方法を提供することを目的とする。【構成】 基板1上に、断面形状が逆台形状のレジストパターン7を形成するとともに断面形状が同一の該レジストパターン7と逆台形状とされ所定のピッチで段階的に幅寸法を小さくした複数のモニタパターン11を形成し、前記レジストパターン7形成の露光/現像過程で基板1上に残存した最小幅のモニタパターン11に基づいて前記レジストパターン7間の下面側離間寸法を推定する。
請求項（抜粋）：
基板(1)上に、断面形状が逆台形状のレジストパターン(7)を形成するとともに断面形状が該レジストパターン(7)と同一の逆台形状とされ所定のピッチで段階的に幅寸法を小さくした複数のモニタパターン(11)を形成し、前記レジストパターン(7)形成の露光/現像過程で基板(1)上に残存した最小幅のモニタパターン(11)に基づいて前記レジストパターン(7)間の下面側離間寸法を推定することを特徴とするレジストパターンの推定方法。
IPC (4件)：
G03F 7/26 501
, G03F 7/26 513
, H01L 21/027
, H01L 21/302
