特許
J-GLOBAL ID：200903010479889857
プラズマプロセス装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-201516
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050272
出願日： 1997年07月28日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：
【要約】【課題】本発明は、周辺部のラジカル密度をより高めてプラズマの利用効率を向上させ、大面積でプロセス速度の速いブロセス処理を行う。【解決手段】気密容器1の壁面側にプラズマ中に紫外光Qを放射して中性原子をラジカル化する発光装置20を設け、パンチングプレート6を通過したプロセス用ガスのラジカルの失活を防ぐとともに中性原子をラジカル化する。
請求項（抜粋）：
気密容器内に複数の孔が形成されたプレートを配置してプラズマ発生室とプロセス処理室とを形成し、前記プラズマ発生室にプロセス用ガスを導入すると共にマイクロ波を導いて前記プロセス用ガスをプラズマ化し、このプラズマ中で生成されたラジカルを前記プレートを通して前記プロセス処理室に送って被処理体をプロセス処理するプラズマプロセス装置において、前記プラズマ中に光を放射して中性原子のラジカル化を行う紫外光を発する発光手段を備えたことを特徴とするプラズマプロセス装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
C23F 4/00 A
, H05H 1/46 A
, H01L 21/302 B
