特許

J-GLOBAL ID：200903010484769665

重ね合わせ精度の管理方法およびこれに用いる重ね合わせ精度測定装置

発明者： 染矢 篤志
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-309139
公開番号（公開出願番号）：特開平9-146285
出願日： 1995年11月28日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】 重ね合わせ精度の管理において露光フィールドのサンプリング・レイアウトに依存しないデータ解析結果を得ることで、誤って再生工程へ回されるロットの数を減少させる。【解決手段】 従来の品質管理値|x|+3σは、線形誤差の影響を受けてウェハ全体の誤差の傾向を正しく表さない場合がある。そこで、3σの中から線形誤差成分である比例と回転を排除し、非線形誤差成分のみを含む3σinter(N)として、正規分布の良品率3σinter(N)=99.7%を統計的に保証する。従来の3σから排除された線形誤差成分に関しては、ウェハ周辺部の露光フィールドでも管理目標値がクリアされる様、その最大/最小値Einter-MAX/MIN(L)を平均値xの項に加算する。結局、フィールド間トータル誤差Einter-TOTALは次式Einter-TOTAL=|x|+|Einter-MAX/MIN(L)|+3σinter(N)で表され、この値を管理目標値と比較する。

請求項（抜粋）：

リソグラフィにより基板面内で複数回のショットを繰り返しながら所定パターンを形成する際の上下パターンの重ね合わせ精度の管理方法であって、前記各ショットに対応して基板上に同数形成される露光フィールドの一部数をサンプリングし、そこで発生している重ね合わせ誤差を測定する第1ステップと、前記第1ステップで測定された重ね合わせ誤差を解析を通じて線形誤差Einter(L)と非線形誤差Einter(N)とに分離する第2ステップと、前記第2ステップで得られた線形誤差Einter(L)からその平均値xと最大/最小値Einter-MAX/MIN(L)、また非線形誤差Einter(N)からその3σinter(N)(ただし、σinter(N)はフィールド間非線形誤差の標準偏差である。)をそれぞれ求める第3ステップと、フィールド間トータル誤差Einter-TOTAL を次式(1) Einter-TOTAL =|x|+|Einter-MAX/MIN(L)|+3σinter(N) (1)により求める第4ステップと、前記第4ステップで求めたフィールド間トータル誤差Einter-TOTAL と管理目標値とを比較するする第5ステップとを有する重ね合わせ精度の管理方法。

IPC (3件)：

G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G03F 9/00 H ,  G03F 9/00 A ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 525 W