特許
J-GLOBAL ID：200903010501220869
レーザービーム位置決め装置及びシステム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小橋 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-157417
公開番号（公開出願番号）：特開平7-005385
出願日： 1993年06月28日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】より大きな直径のレーザービーム及びより大きなミラーを使用してビームスポットをフォーカスさせ且つ迅速に操作するための高パワーレーザーシステムを提供する。【構成】レーザービーム28が支持ハウジング55における開口54を介して通過し、次いで負(発散性)の球状レンズ56を介して通過する。円筒補整された発散性のビーム31は第一平坦ミラー32によって45°の角度で反射される。発散性ビーム31′は第二平坦ミラー33によって大型の球状又は放物線上のミラー34へ反射される。ミラー34の曲率、レンズ56、それらの離隔距離及びミラー34の光軸に関しての発散性ビーム31′′の入射角は、収束性ビーム35が非点収差が補整された焦点36へ到達するように設定されている。作業乃至は加工物表面37上の焦点36の位置は、平坦なスキャニングミラー26の位置により決定される。
請求項（抜粋）：
レーザービームスキャニング装置において、レーザー源、第一リフレクタ上へレーザービームを指向させるべく前記レーザー源と動作結合されている制御ユニット、前記制御ユニット及び前記レーザービームの三次元表示を作業物体上へ反射される第二リフレクタと動作結合されているスキャナ、を有することを特徴とする装置。
IPC (3件)：
G02B 26/10 101
, B23K 26/08
, G01C 3/06
