特許
J-GLOBAL ID：200903010510476868
荷電粒子ビーム露光装置及びその制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239847
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062890
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 連続ステージ移動する被露光対象に電子ビームを偏向照射し、半導体集積回路のパターン描画処理をする。【構成】 第1及び第2の偏向手段、第1と第2の偏向駆動手段、ステージ駆動/制御手段、各手段の入出力の制御手段とを具備し、第2の偏向駆動手段が、少なくとも主偏向データMD1とステージ位置データSTDを入力として主偏向データMD2を出力するデータ補正演算手段15A、主偏向データMD2に応答する偏向信号出力手段、主偏向データMD2に応答し第1のパルス信号PS1を出力する第1の待ち時間発生手段15C、第1のパルス信号に同期し第2のパルス信号PS2を出力する第2の待ち時間発生手段15Dと、第1、第2のパルス信号を比較して描画開始進行S3を出力する比較出力手段15Eから成る。
請求項（抜粋）：
被露光対象(18)に荷電粒子ビーム(11a)を出射する荷電粒子発生手段(11)と、前記荷電粒子ビーム(11a)を偏向する偏向手段(13)と、前記偏向手段(13)の出力を制御する偏向駆動手段(15)と、前記被露光対象(18)の移動制御をするステージ駆動/制御手段(16)と、前記荷電粒子発生手段(11)、偏向駆動手段(15)及びステージ駆動/制御手段(16)の入出力を制御する制御手段(17)とを具備し、前記偏向駆動手段(15)が、少なくとも予め準備された記憶手段から供給される主偏向データ(MD1)と該ステージ駆動/制御手段(16)より供給されるステージ位置データ(STD)とを入力して、補正された主偏向データ(MD2)を出力するデータ補正演算手段(15A)と、前記補正された主偏向データ(MD2)に基づいて主偏向信号(S2)を出力する偏向信号出力手段(15B)と、前記補正された主偏向データ(MD2)の出力のタイミングに応じて第1のパルス信号(PS1)を発生する第1の待ち時間発生手段(15C)と、該第1のパルス信号(PS1)に基づいて該第1のパルス信号のパルス幅とは異なるパルス幅を有する第2のパルス信号(PS2)を発生する第2の待ち時間発生手段(15D)と、前記第1、第2のパルス信号(PS1,PS2)を比較して描画開始信号(S3)を出力する比較出力手段(15E)から成ることを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01J 37/147
, H01J 37/305
