特許
J-GLOBAL ID：200903010515081276

抗菌性低刺激化粧料

発明者：
寺井 慎

寺井 慎 について


出願人/特許権者：
株式会社ノエビア

株式会社ノエビア について


代理人 (1件)： 竹井 増美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090484
公開番号（公開出願番号）：特開平9-255518
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 有効な抗菌作用を示し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけでなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【解決手段】 N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩の1種又は2種以上と、抗菌活性を有する植物の抽出物より選んだ1種又は2種以上とを含有して成る。N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩及び植物抽出物の配合量は、それぞれ0.001〜0.5重量%、0.01〜20.0重量%が適当である。植物抽出物との併用により抗菌活性が相乗的に増強されるので、N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩0.001〜0.2重量%程度の配合で十分な抗菌作用を発揮させることができ、皮膚に対する刺激性や使用時の不快感を緩和することができる。
請求項（抜粋）：
一般式(1),一般式(2)及び一般式(3)で示されるN-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩より選ばれる1種又は2種以上と、抗菌作用を有する植物抽出物の1種又は2種以上を含有することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。【化1】【化2】【化3】(但し、一般式(1)〜一般式(3)中、RCOは炭素数6〜20の飽和又は不飽和脂肪酸残基、Xは-NH2,-OCH3,-OC2H5,-OC3H7,-OC4H9又は-OCH2C6H5を示し、一般式(2)中、nは3又は4を示す。)
IPC (8件)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50
FI (10件)：
A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/02 Z ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50
引用特許：
審査官引用 (13件)
  • 薬事法指定の酸化防止剤ないしは防腐剤を含まない化粧品
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-330257   出願人：ラシーヌ化学株式会社, 株式会社アンプレイン
  • 毛髪化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-020514   出願人：ライオン株式会社
  • 特開昭60-019710
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