特許
J-GLOBAL ID:200903010542201801
フォトリソグラフィのための流体ノズルシステム、エネルギー放射システム及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三枝 英二 (外8名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-542115
公開番号(公開出願番号):特表2002-510874
出願日: 1999年04月02日
公開日(公表日): 2002年04月09日
要約:
【要約】フォトリソグラフィで用いる放射エネルギーシステムに、流体ノズルを備えることができる。ノズル及びその形成方法を提供する。ノズル(22)に、上流側端部(102)と下流側端部(104)との間のノズル本体(100)内に配置されるノズル孔(110)を備えることができる。ノズル通路(118)をノズル孔(110)内に画定し、ノズル本体(100)の下流側端部(104)からノズル孔(110)まで長手方向に所定の長さ(120)に延ばすことができる。排出口(124)を、ノズル孔(110)の下流側端部(104)に画定し、対応の幅(126)とすることができる。排出口(124)の幅(126)は、実質的に、ノズル通路(118)の長手方向長さ(120)より短くすることができる。本形成方法では、部材(200)の第1の側(202)に凹部(206)を形成することができる。部材内通路(216)を、部材(200)の第2の側(204)と凹部(206)との間に形成することができる。凹部(206)に嵌合するような大きさの挿入部(220)を備えることができる。挿入部内通路(230)を挿入部(220)に形成することができる。次に、挿入部内通路(230)と部材内通路(216)を一直線にした状態で、凹部(206)に挿入部(220)を固定することができる。
請求項(抜粋):
ノズル本体内に配置され、上流側端部と下流側端部とを有するノズル孔と、 前記ノズル孔内に画定され、前記ノズル孔の下流側端部から前記ノズル孔内へ長手方向に長く延びるノズル通路と、 前記ノズル孔の下流側端部にある排出口とを備え、 前記ノズル本体は、ノズル先端部を形成するように前記下流側端部の隣接部で先が細くなっている外側表面を有し、 前記排出口は対応する幅を有し、 前記排出口の幅は、実質的に前記ノズル通路の前記長手方向の長さより狭いノズル。
IPC (3件):
H01L 21/027
, B05B 1/34
, G03F 7/20 501
FI (3件):
B05B 1/34
, G03F 7/20 501
, H01L 21/30 502 D
Fターム (15件):
2H097BA04
, 2H097BA10
, 2H097CA15
, 2H097CA17
, 2H097LA10
, 4F033BA01
, 4F033CA04
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033GA11
, 4F033LA05
, 4F033NA01
, 5F046CA08
, 5F046CA10
, 5F046GC03
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