特許

J-GLOBAL ID：200903010551041175

乾燥装置および乾燥方法

発明者： 芹川 嘉寛 ,  堀田 幸一
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-007527
公開番号（公開出願番号）：特開2002-210920
出願日： 2001年01月16日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】本発明は、基材上に水性皮膜組成物により形成されている未乾燥状態の皮膜を、皮張りの発生がなく、効率よく乾燥できるようにした乾燥装置および乾燥方法の提供を目的とする。【解決手段】基材上に水性皮膜組成物により形成されている未乾燥状態の皮膜に対して熱風を吹き付けながら、基材の皮膜の形成されていない面からは皮膜に向けて超音波を照射する。

請求項（抜粋）：

基材上に皮膜形成用水性組成物により形成されている未乾燥状態の皮膜に対して熱風を吹き付けるための熱風吹き付け装置と、基材の皮膜が形成されていない面に接してあるいは近傍に位置し、基材側から皮膜に向けて超音波を照射するための超音波発生装置とを少なくとも具備することを特徴とする乾燥装置。

IPC (3件)：

B41F 23/04 ,  B41M 7/00 ,  F26B 13/10

FI (4件)：

B41F 23/04 A ,  B41F 23/04 Z ,  B41M 7/00 ,  F26B 13/10 C

Fターム (20件)：

2C020CA03 ,  2C020CA07 ,  2H113AA04 ,  2H113CA05 ,  2H113FA29 ,  2H113FA36 ,  2H113FA42 ,  3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC19 ,  3L113AC45 ,  3L113AC52 ,  3L113AC54 ,  3L113AC63 ,  3L113AC64 ,  3L113BA26 ,  3L113BA30 ,  3L113DA01 ,  3L113DA24