特許

J-GLOBAL ID：200903010553901643

XYステージの位置補正方法、装置、及び、これを用いた位置決め方法、装置

発明者： 小林 出志
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034638
公開番号（公開出願番号）：特開2003-233424
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】 装置の価格を上げることなく、高いレーザ加工位置精度を実現する。【解決手段】 予めパターンが規則的に形成された基準マスク30をXYステージ10上に配置し、各パターン32の位置をカメラ44で撮影して得た座標値に基づいて、XYステージの位置を補正する際に、XYステージの位置測定用のスケール20X、20Yをレーザ測長により補正し、前記基準マスク30の所定の列上に並んだパターンの位置を、前記レーザ測長により補正したXYステージ用のスケールを基準として求め、該補正後のスケール測定値に基づいて、前記座標値を補正する。

請求項（抜粋）：

予めパターンが規則的に形成された基準マスクをXYステージ上に配置し、各パターンの位置をカメラで撮影して得た座標値に基づいて、XYステージの位置を補正する際に、XYステージの位置測定用のスケールをレーザ測長により補正し、前記基準マスクの所定の列上に並んだパターンの位置を、前記レーザ測長により補正したXYステージ用のスケールを基準として求め、該補正後のスケール測定値に基づいて前記座標値を補正することを特徴とするXYステージの位置補正方法。

IPC (3件)：

G05D 3/12 ,  G01B 11/00 ,  G12B 5/00

FI (4件)：

G05D 3/12 T ,  G05D 3/12 W ,  G01B 11/00 A ,  G12B 5/00 T

Fターム (28件)：

2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065BB27 ,  2F065FF04 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065LL12 ,  2F065PP12 ,  2F078CA08 ,  2F078CB06 ,  2F078CB12 ,  2F078CC01 ,  5H303AA01 ,  5H303BB02 ,  5H303BB07 ,  5H303BB12 ,  5H303CC02 ,  5H303DD01 ,  5H303EE03 ,  5H303EE09 ,  5H303FF08 ,  5H303FF13 ,  5H303GG13 ,  5H303HH02 ,  5H303HH07 ,  5H303LL03