特許

J-GLOBAL ID：200903010556621471

受容層転写シート

発明者： 上野 剛史
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-148475
公開番号（公開出願番号）：特開平7-329432
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】 高温環境下での連続印字においてもジャミング等の異常転写がなく、希望領域のみに受容層を転写することを目的とする。【構成】 基材の一方の側に、離型層を形成し、離型層上に、剥離可能に受容層を形成してなる受容層転写シートにおいて、該離型剤層が、ガラス転移点が120°C以上160°C以下の樹脂と、ガラス転移点が50°C以上120°C未満の樹脂とを含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基材の一方の側に、離型層を形成し、離型層上に、剥離可能に受容層を形成してなる受容層転写シートにおいて、該離型剤層が、ガラス転移点が120°C以上160°C以下の樹脂と、ガラス転移点が50°C以上120°C未満の樹脂とを含有することを特徴とする受容層転写シート。