特許
J-GLOBAL ID:200903010557113720

画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-086597
公開番号(公開出願番号):特開2006-267644
出願日: 2005年03月24日
公開日(公表日): 2006年10月05日
要約:
【課題】光センサモジュールの実装基板と光学センサとの間に遮光塗料を塗布することにより、実装基板中に透過した迷光による、受光素子による検出光量のS/N比を低減させ、低コストで検知精度の高いセンサを備える画像形成装置を提供すること。【解決手段】実装基板と、前記実装基板上に少なくとも1つ以上の発光素子並びに受光素子の光学素子が搭載された光センサモジュールを有する画像形成装置において、前記光センサモジュールの前記実装基板と光学素子の間に遮光塗料を塗布することを特徴とする。前記遮光塗料は、前記実装基板上の実装素子記載シルクと同材料であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
実装基板と、前記実装基板上に少なくとも1つ以上の発光素子並びに受光素子の光学素子が搭載された光センサモジュールを有する画像形成装置において、 前記光センサモジュールの前記実装基板と光学素子の間に遮光塗料を塗布することを特徴とする画像形成装置。
IPC (3件):
G03G 15/00 ,  G01J 3/02 ,  G01J 3/46
FI (3件):
G03G15/00 303 ,  G01J3/02 S ,  G01J3/46 Z
Fターム (14件):
2G020AA08 ,  2G020DA23 ,  2G020DA31 ,  2G020DA43 ,  2H027DA09 ,  2H027DE02 ,  2H027DE07 ,  2H027DE10 ,  2H027EB04 ,  2H027EC03 ,  2H027EC06 ,  2H027EF09 ,  2H027HB09 ,  2H027ZA07
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 画像形成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-001458   出願人:キヤノン株式会社

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