特許
J-GLOBAL ID:200903010562066960

ゲル膜の成形方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-328101
公開番号(公開出願番号):特開2002-134366
出願日: 2000年10月27日
公開日(公表日): 2002年05月10日
要約:
【要約】【課題】 ゲル膜がアルミニウム基板から容易にはがすことができるようにすることにある。【解決手段】 電解液を塗布するアルミニウム基板の表面荒さを0.002mm以下にし、ゲル膜をアルミニウム基板から容易に剥離できるようにしたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
電解液を塗布するアルミニウム基板の表面荒さを0.002mm以下にし、ゲル膜をアルミニウム基板から容易に剥離できるようにしたことを特徴とするゲル膜の成形方法。

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