処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312658
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144763
出願日： 1996年11月11日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】極めてスループットが高く、かつ多様性の高い処理が可能な処理装置を提供すること。【解決手段】処理装置は、鉛直方向に沿って延在する搬送路22a,22bと、この搬送路22a,22bの周囲に配置され、各々被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを鉛直方向に積層して構成される複数の処理部G1〜G10と、搬送路22a,22bを移動するとともに、前記複数の処理部の各処理ユニットに対して被処理体を搬入出する主搬送機構21a,21bとを備えた複数の処理セット20a,20bを有し、さらに、隣接する処理セット間で被処理体を搬送するセット間搬送機構を有する。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して複数工程からなる処理を施す処理装置であって、鉛直方向に沿って延在する搬送路と、この搬送路の周囲に配置され、各々被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを鉛直方向に積層して構成される複数の処理部と、前記搬送路を移動するとともに、前記複数の処理部の各処理ユニットに対して前記被処理体を搬入出する主搬送機構と、を備えた複数の処理セットを有し、さらに、隣接する処理セット間で被処理体を搬送するセット間搬送機構を有することを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 502 J

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-303488 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-095039
特開平3-095039

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