特許

J-GLOBAL ID：200903010578530658

肌荒れ改善用化粧料

発明者： 高橋 淳 ,  西田 美晴
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-055747
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228380
出願日： 1998年02月20日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【目的】 肌荒れを防止し、肌荒れを改善する効果に優れた化粧料を提供する。【構成】 ピリドキシンまたはその誘導体と、皮膚角層中に存在する自然保湿印紙(NMF)とを配合する肌荒れ改善用化粧料。

請求項（抜粋）：

ピリドキシンまたはその誘導体および皮膚角層中に存在する自然保湿因子(以下NMF成分と称する)を配合してなることを特徴とする肌荒れ改善用化粧料。

IPC (2件)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00

FI (6件)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 H ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 B ,  A61K 7/00 W