特許
J-GLOBAL ID:200903010579677156
ガスバリアフィルム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-052307
公開番号(公開出願番号):特開2002-192646
出願日: 2001年02月27日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】 膜厚を所定の厚さに保ちつつ、極めて優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを目的とする。【解決手段】 基材の片面または両面に、プラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Si原子数100に対してO原子数170〜200およびC原子数30以下の成分割合からなっており、さらに1055〜1065cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。
請求項(抜粋):
基材の片面または両面に、プラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Si原子数100に対してO原子数170〜200およびC原子数30以下の成分割合からなっており、さらに1055〜1065cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (7件):
B32B 9/00
, B65D 5/56
, B65D 30/02
, B65D 65/40
, C08J 7/06 CFG
, C23C 16/40
, C08L101:00
FI (7件):
B32B 9/00 A
, B65D 5/56 D
, B65D 30/02
, B65D 65/40 A
, C08J 7/06 CFG Z
, C23C 16/40
, C08L101:00
Fターム (92件):
3E060AA03
, 3E060AA05
, 3E060AB04
, 3E060BA06
, 3E060BC01
, 3E060BC04
, 3E060BC06
, 3E060CG12
, 3E060CG30
, 3E060DA20
, 3E060EA03
, 3E064AA01
, 3E064AB03
, 3E064AB11
, 3E064BA03
, 3E064BA05
, 3E064BA07
, 3E064BA21
, 3E064BA22
, 3E064BA24
, 3E064BA36
, 3E064BA37
, 3E064BA54
, 3E064BA60
, 3E064BB03
, 3E064BC08
, 3E064BC18
, 3E064EA18
, 3E064GA04
, 3E086AB02
, 3E086AD01
, 3E086AD02
, 3E086BA04
, 3E086BA15
, 3E086BA33
, 3E086BA40
, 3E086BB02
, 3E086BB05
, 3E086BB35
, 3E086BB51
, 3E086BB75
, 3E086BB90
, 3E086CA01
, 3E086CA28
, 3E086CA31
, 3E086DA02
, 4F006AA35
, 4F006AA38
, 4F006AB76
, 4F006BA05
, 4F006CA07
, 4F006CA08
, 4F006DA01
, 4F100AA20B
, 4F100AA20C
, 4F100AH06B
, 4F100AH06C
, 4F100AK01D
, 4F100AK46
, 4F100AR00E
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA06
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100EH66B
, 4F100EH66C
, 4F100GB15
, 4F100GB41
, 4F100JA20
, 4F100JD02
, 4F100JG01E
, 4F100JL12D
, 4F100JM02B
, 4F100JM02C
, 4F100JN18B
, 4F100JN18C
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA44
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030GA14
, 4K030HA02
, 4K030LA01
, 4K030LA18
, 4K030LA24
引用特許: