特許

J-GLOBAL ID：200903010586670183

基板回転式処理装置

発明者： 西村 讓一 ,  大谷 正美 ,  今西 保夫 ,  辻 雅夫 ,  岩見 優樹 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205376
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040490
出願日： 1997年07月14日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 基板回転機構やカップ、その下方に配置されたドレン回収ユニットや排気ユニットのメンテナンス作業を容易に行うことができる装置を提供する。【解決手段】 処理液供給ユニット12から分離して、スピンチャック16、基板回転機構およびカップ22を一体的に水平方向へ引出し自在とした。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢に保持するスピンチャックと、基板を保持した前記スピンチャックを鉛直軸回りに回転させる基板回転機構と、前記スピンチャックに保持された基板の周囲を取り囲むように配設され、基板上から周囲へ飛散する処理液を回収するためのカップと、このカップの近傍に配設され、前記スピンチャックに保持された基板の表面へ処理液を供給するノズルを有する処理液供給ユニットと、前記カップの下方に配設され、カップの内底部に集まるドレンを回収するドレン回収ユニットと、前記カップの下方に配設され、カップの内部を排気する排気ユニットと、を備えた基板回転式処理装置において、前記処理液供給ユニットから分離して、少なくとも前記スピンチャック、前記基板回転機構および前記カップを一体的に水平方向へ引出し自在としたことを特徴とする基板回転式処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 351

FI (4件)：

H01L 21/30 569 C ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 564 C