特許
J-GLOBAL ID:200903010616749243
ダイヤモンド膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小塩 豊
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-158077
公開番号(公開出願番号):特開平5-345697
出願日: 1992年06月17日
公開日(公表日): 1993年12月27日
要約:
【要約】【目的】 ダイヤモンド核の発生密度が高く、膜の平坦性に優れたダイヤモンド膜を製造する。【構成】 ダイヤモンド核発生過程とそれに続くダイヤモンド膜成長過程を経るダイヤモンド膜の製造方法のうち前記ダイヤモンド核発生過程において、基体温度を上昇させる前に炭素源ガスを導入し、基体表面温度を急激に上昇させてダイヤモンド核発生を行うダイヤモンド膜の製造方法。
請求項(抜粋):
ダイヤモンド核発生過程とそれに続くダイヤモンド膜成長過程を経るダイヤモンド膜の製造方法のうち前記ダイヤモンド核発生過程において、基体温度を上昇させる前に炭素源ガスを導入し、基体表面温度を急激に上昇させてダイヤモンド核発生を行うことを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。
IPC (3件):
C30B 29/04
, C01B 31/06
, C23C 16/26
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