特許
J-GLOBAL ID：200903010622909899
露光方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-247500
公開番号（公開出願番号）：特開平11-191522
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：
【要約】【課題】 焦点深度が厳しくなった世代においても高精度で高速な基板表面の位置や傾きを検出して補正する。【解決手段】 基板を投影光学系の光軸と略直交する方向に沿って移動して該基板上の複数個のショットを所定の露光位置に順次送り込むとともに、送り込まれる被露光ショットの被露光面の前記光軸方向に関する位置および傾きの少なくとも一方を移動中に計測し、該計測値に基づいて該被露光面を前記投影光学系の焦平面に合焦させた後、前記投影光学系を介して前記被露光面を露光するに際し、事前に、前記露光位置で計測した場合のチップ内段差に依存する計測誤差である第1のフォーカスオフセットを求めるとともに、前記ショットごとの、前記移動中計測を行なうための計測点の相違や本体構造の変形に依存する計測誤差である第2のフォーカスオフセットを求めておき、露光シーケンスにおいては、被露光ショットごとの移動中計測における計測値を前記第2のフォーカスオフセットを用いて補正した結果により該被露光ショットの被露光面を前記焦平面に合焦させる。
請求項（抜粋）：
基板を投影光学系の光軸と略直交する方向に沿って移動して該基板上の複数個のショットを所定の露光位置に順次送り込むとともに、送り込まれる被露光ショットの被露光面の前記光軸方向に関する位置および傾きの少なくとも一方を移動中に計測し、該計測値に基づいて該被露光面を前記投影光学系の焦平面に合焦させた後、前記投影光学系を介して前記被露光面を露光する露光方法において、前記露光位置で前記被露光面の位置を計測した場合のチップ内段差に依存する計測誤差である第1のフォーカスオフセットを事前に求める段階と、前記ショットごとの、前記移動中計測を行なうための計測点の相違や本体構造の変形に依存する計測誤差である第2のフォーカスオフセットを事前に求める段階と、露光シーケンスにおいて被露光ショットごとの移動中計測における計測値を前記第2のフォーカスオフセットを用いて補正した結果により該被露光ショットの被露光面を前記焦平面に合焦させる段階とを具備することを特徴とする露光方法。
引用特許：
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