特許
J-GLOBAL ID：200903010630078424
ニツケル薄膜形成材料
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-253050
公開番号（公開出願番号）：特開平5-065656
出願日： 1991年09月04日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】 1ミクロン以下のニッケル薄膜を大気中で塗布、乾燥、焼成という簡便な方法でガラスやセラミックスの基材に形成させることができ、酸化していないニッケル薄膜を形成することのできる材料を提供することにある。【構成】 ニッケル有機酸塩あるいはアセチルアセトンの錯体と有機ほう素化合物と有機樹脂と有機溶媒を任意の割合で混合し均一な溶液としたもので目的を達成させることができる。またニッケル薄膜の密着性を高めるためにガラス成分等の樹脂酸の金属塩を適量加えて使用することもできる。
請求項（抜粋）：
ニッケル化合物とほう素化合物と有機樹脂と有機溶媒から成るニッケル薄膜形成材料。
IPC (4件)：
C23C 18/08
, H01B 5/14
, H01B 13/00 503
, H01B 1/16
