特許
J-GLOBAL ID:200903010632315601
水素生成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-248363
公開番号(公開出願番号):特開2002-060206
出願日: 2000年08月18日
公開日(公表日): 2002年02月26日
要約:
【要約】【課題】 変成部の一酸化炭素低減特性を安定的に発揮させることを可能とし、水素の安定供給を実現する水素生成装置を安易に提供する。【解決手段】 貴金属と金属酸化物を構成材料とする変成触媒体を設けた変成部と、前記変成部に少なくとも一酸化炭素と水蒸気を副成分として含む水素ガスを供給する水素ガス供給部を具備する装置において、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して上流に位置する部分を300°C以上500°C以下の範囲の温度に、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して下流に位置する部分を300°C以下の温度に維持することを特徴とする水素生成装置。
請求項(抜粋):
貴金属と金属酸化物を構成材料とする変成触媒体を設けた変成部と、前記変成部に少なくとも一酸化炭素と水蒸気を副成分として含む水素ガスを供給する水素ガス供給部を具備する装置において、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して上流に位置する部分を300°C以上500°C以下の範囲の温度に、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して下流に位置する部分を300°C以下の温度に維持することを特徴とする水素生成装置。
IPC (4件):
C01B 3/48
, B01J 23/63
, H01M 8/06
, H01M 8/10
FI (4件):
C01B 3/48
, H01M 8/06 G
, H01M 8/10
, B01J 23/56 301 M
Fターム (37件):
4G040EA02
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB12
, 4G040EB32
, 4G040EB41
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01B
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BC35A
, 4G069BC35B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC69A
, 4G069BC70A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069CB81
, 4G069CC26
, 4G069CC32
, 4G069DA06
, 4G069EA02Y
, 4G069EB18Y
, 4G069EE09
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 5H026AA06
, 5H027AA04
, 5H027AA06
, 5H027BA01
, 5H027BA17
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