特許

J-GLOBAL ID：200903010639128084

回転式基板処理装置

発明者： 矢部 学 ,  中村 靖
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-003869
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199852
出願日： 1997年01月13日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】 基板周辺の回転機構部に付着した処理液に起因する基板の汚染を防止することができる回転式基板処理装置を提供する。【解決手段】 カップ8の内部に配置された基板保持部2の外周端部上方に洗浄ノズル12を配置する。洗浄ノズル12は、基板保持部2の外周端部の上面および側面に洗浄液を吐出し、これらの表面に付着した処理液を洗い流す。洗浄ノズル12はノズルアーム10に保持され、洗浄時にカップ8内の所定位置に移動し、洗浄処理終了後はカップ8の外部に退避する。

請求項（抜粋）：

基板よりも大径の回転部材上に前記基板の周縁部を保持する保持部材が設けられてなる基板保持部と、前記基板保持部を鉛直軸の周りで回転駆動する回転駆動手段と、前記基板保持部の前記回転部材の外周端部に洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段とを備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 351 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/304 351 S ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C