特許
J-GLOBAL ID：200903010646207496
縮小投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-062059
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275494
出願日： 1993年03月22日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】縮少投影露光装置において、減圧室を用いることにより大気の温度及び湿度のゆらぎや大気圧の変動による誤差を低減し、かつ発塵を少なくし装置の小型化を可能とする。【構成】レチクル2及びその支持枠3と縮小レンズ組立体4の入射部を第1の減圧室13で包み、縮小レンズ組立体4の出射部及びウェハ5とその搬送X-Yステージ6を第2の減圧室14で包む。ウェハパターン検出システム10及びレチクルパターン検出システム12は第1の減圧室13に配置され、レーザー測長器11は第2の減圧室14に配置される。第1及び第2の減圧室13,14の外側で縮小レンズ組立体4の外筒部の周囲にレンズ温度調節システム20が設置される。縮小レンズ組立体4には第1及び第2の減圧室とレンズエレメント25間のスペースとを連絡する通気路29,30が形成されている。
請求項（抜粋）：
露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウェハ搬送X-Yステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送X-Yステージを包む、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
