特許

J-GLOBAL ID：200903010658043529

微細パターンを含むパターンを形成する為のマスク及びそのマスクを用いたパターン形成方法

発明者： 宮田 忠幸
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-231048
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095230
出願日： 1994年09月27日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】 微細パターンを含むパターンを形成する為のマスク及びそのマスクを用いたパターン形成方法に関し、位相シフト・パターンを単純化することに依って、位相シフト・パターンの設計及びコンピュータへの入力に要する時間を短縮しようとする。【構成】 必要とする全体のパターンから取り出された位相シフトを必要とする微細パターンである露光パターン11A及びその露光パターン11Aに対応する位相シフト・パターン11Bをもつマスク11、及び、必要とする全体のパターンから取り出された位相シフトを必要としないパターンである露光パターン12Aをもつマスク12で一組になっていて、その両方を用いて露光を行うことで、全体のパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

必要とする全体のパターンから取り出された位相シフトを必要とする微細パターン及びその微細パターンに対応する位相シフト・パターンをもつマスクと、必要とする全体のパターンから取り出された位相シフトを必要としないパターンをもつマスクとからなることを特徴とする微細パターンを含むパターンを形成する為のマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528