特許
J-GLOBAL ID:200903010672110972
流動ガスに反応剤を供給するための装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-526278
公開番号(公開出願番号):特表2003-510175
出願日: 2000年09月14日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】流動ガス、特に排ガスに反応剤、特に還元剤を供給するための装置であって、該装置の壁に、開口(2)を備えて形成された供給管が設けられており、前記開口を介して、供給管にもたらされた反応剤を流動ガス内にもたらすことができるようになっている形式のものにおいて、前記開口(2)の上流側で供給管(1)に絞りが配置されていることを特徴とする。
請求項(抜粋):
流動ガス、特に排ガスに反応剤、特に還元剤を供給するための装置であって、該装置の壁に、開口(2)を備えて形成された供給管が設けられており、前記開口を介して、供給管にもたらされた反応剤を流動ガス内にもたらすことができるようになっている形式のものにおいて、 前記開口(2)の上流側で供給管(1)に絞りが配置されていることを特徴とする、流動ガスに反応剤を供給するための装置。
IPC (6件):
B01D 53/56
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/74
, B01D 53/86
, B01J 4/00 105
, F01N 3/08
FI (5件):
B01J 4/00 105 D
, F01N 3/08 B
, B01D 53/34 129 E
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/36 B
Fターム (25件):
3G091AA02
, 3G091AB04
, 3G091BA14
, 3G091BA39
, 3G091CA13
, 3G091CA16
, 3G091CA17
, 3G091DA01
, 3G091DA02
, 4D002AA12
, 4D002AC10
, 4D002BA06
, 4D002CA11
, 4D002CA20
, 4D002DA07
, 4D002DA57
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048AC03
, 4D048CC61
, 4G068AA03
, 4G068AB11
, 4G068AC13
, 4G068AD18
, 4G068AF40
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