特許

J-GLOBAL ID：200903010700430953

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤森 亨 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254199
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072478
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 高感度で高解像力を有し、現像欠陥およびパターンの矩形性が改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】(a)特定の構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(I)、一般式(II)及び一般式(III)で示される構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)〜(III)中、R21は水素原子又はメチル基を表し、R22は酸の作用により分解しない基を表し、mは2〜5の整数を表す。Wは酸の作用により分解する基を表す。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/04 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/04 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (48件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC081 ,  4J002BC121 ,  4J002EB116 ,  4J002ER007 ,  4J002ER027 ,  4J002EU027 ,  4J002EU047 ,  4J002EU077 ,  4J002EU117 ,  4J002EU137 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU237 ,  4J002EV216 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002EV327 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD318 ,  4J100AB04R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05R ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA05 ,  4J100JA38