特許

J-GLOBAL ID：200903010703094440

ウエハ加熱装置

発明者： 鈴木 雅史
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-015562
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217930
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、ウエハ加熱装置に関し、ウエハ面内での温度分布を均一にすることができるとともに、正確なウエハ温度を測定することができ、しかも、真空度を保って処理したい際、真空度の低下を抑えることができるウエハ加熱装置を提供することを目的とする。【構成】 ウエハ側処理室2と赤外線放射加熱源4側とを分離する赤外線放射率の高い薄膜6と、該ウエハ側処理室2と該加熱源4側の差圧を制御する圧力制御手段9、10、11とを有するように構成する。

請求項（抜粋）：

ウエハ側処理室(2)と赤外線放射加熱源(4)側とを分離する赤外線放射率の高い薄膜(6)と、該ウエハ側処理室(2)と該加熱源(4)側の差圧を制御する圧力制御手段(9、10、11)とを有することを特徴とするウエハ加熱装置。

IPC (5件)：

H01L 21/26 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324