特許
J-GLOBAL ID：200903010707170140
非線形光学デバイスの作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-023892
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221723
出願日： 1997年02月06日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 高精度で微細な非線形光学デバイスを簡便かつ低コストで作製しうる方法を提供する。【解決手段】 第1クラッド層(1,1B),水酸基を含むコア層(2),および第2クラッド層(3)の3層構造を形成し、X線を所定のパターンでコア層(2)に照射してそのパターンに対応した線形光学導波路(2a)を形成し、その後に、3層構造(1,1B;2;3)を正電極(6)と負電極(7)との間に挟んで昇温された温度のもとで電圧を印加することによって線形光学導波路(2a)の所定の長さ部分を電気的に分極して非線形光学導波路部分(2b)に変換するステップを含んでいる。
請求項（抜粋）：
シリカガラスタイプの非線形光学デバイスの作製方法であって、順次積層された第1クラッド層,コア層,および第2クラッド層を含む3層構造を形成し、前記コア層は水酸基を含み;X線を所定のパターンで前記コア層に照射してその屈折率を高めることによって、前記コア層内に前記所定のパターンに対応した線形光学導波路を形成し;その後に、前記3層構造を正電極と負電極との間に挟んで昇温された温度のもとに電圧を印加することによって前記線形光学導波路の所定長さ部分を電気的に分極して非線形光学導波路部分に変換するステップを含むことを特徴とする非線形光学デバイスの作製方法。
IPC (3件)：
G02F 1/37
, G02B 6/13
, G02B 6/12
G02F 1/37
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 H
